Vi bøger
Levering: 1 - 2 hverdage

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - Seiji Samukawa - Bog

Bag om Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

Vis mere
  • Sprog:
  • Engelsk
  • ISBN:
  • 9784431547945
  • Indbinding:
  • Paperback
  • Sideantal:
  • 40
  • Udgivet:
  • 17. februar 2014
  • Udgave:
  • 2014
  • Størrelse:
  • 155x235x0 mm.
  • Vægt:
  • 949 g.
  • 8-11 hverdage.
  • 6. marts 2025
På lager

Normalpris

Medlemspris

Prøv i 30 dage for 45 kr.
Herefter fra 79 kr./md. Ingen binding.

Beskrivelse af Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

Brugerbedømmelser af Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System



Find lignende bøger
Bogen Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System findes i følgende kategorier:

Gør som tusindvis af andre bogelskere

Tilmeld dig nyhedsbrevet og få gode tilbud og inspiration til din næste læsning.