Bøger af Ingolf Ruge

Aus den Besprechungen: "e;Der Autor wendet sich mit diesem Buch an Leser, die Halbleiterkomponenten herstellen wollen. Er versucht einen Mittelweg zu nehmen, indem er sich auf grundlegende Theorien abstutzt, aber auch technologische Prozesse beschreibt. Auch Schwierigkeiten, die entstehen, wenn neu entwickelte Technologien in die Produktion ubergefuhrt werden mussen, verschweigt er nicht. ..."e; #PTT Bulletin technique/Technische Mitteilungen# "e;... Dem Autor dieses Buches ist es gelungen, sowohl die grundlegenden Theorien als auch die technologischen Prozesse und Verfahren in einer lebendigen und eindrucksvollen Art zu behandeln. Das Buch wird viele Freunde finden."e; #Elin-Zeitschrift# "e;Das Buch schliet eine Lucke in der deutschsprachigen Literatur, die von Lehrenden und Lernenden und sicher auch von Praktikern stark empfunden wurde. Der Versuch des Verfassers, sich bei der Beschreibung der technologischen Prozesse nicht in Einzelheiten zu verlieren, vielmehr das Grundsatzliche herauszustellen und auch theoretisch abzustutzen, darf als gegluckt bezeichnet werden..."e; #AEU Archiv fur Elektronik und Ubertragungstechnik#

In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bucher zum Thema Ionenimplanta- tion, die sich fast ausschlielich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tatige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einraumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implanta- tionsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, F or- schungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veranderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation fur ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung mu deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abri der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsachlich verwendeten Me- methoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und naturlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Moglich- keiten der Implantation eingegangen.