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Mikrowellenplasmaunterstutzte Prozesse fur Anwendungen in der Halbleitertechnologie. - Stephan Altmannshofer - Bog
- Indbinding:
- Paperback
- Sideantal:
- 230
- Udgivet:
- 18. marts 2019
- Størrelse:
- 210x148x12 mm.
- Vægt:
- 281 g.
- 2-4 uger.
- 29. januar 2025
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Beskrivelse af Mikrowellenplasmaunterstutzte Prozesse fur Anwendungen in der Halbleitertechnologie.
In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.
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