Gør som tusindvis af andre bogelskere
Tilmeld dig nyhedsbrevet og få gode tilbud og inspiration til din næste læsning.
Ved tilmelding accepterer du vores persondatapolitik.Du kan altid afmelde dig igen.
Plasma Processes for Semiconductor Fabrication - W. N. G. Hitchon - Bog
- Indbinding:
- Paperback
- Sideantal:
- 232
- Udgivet:
- 29. september 2005
- Størrelse:
- 178x254x14 mm.
- Vægt:
- 414 g.
- 2-3 uger.
- 16. december 2024
På lager
Forlænget returret til d. 31. januar 2025
Normalpris
-
BLACK FRIDAY: :
Medlemspris
Prøv i 30 dage for 45 kr.
Herefter fra 79 kr./md. Ingen binding.
Herefter fra 79 kr./md. Ingen binding.
Beskrivelse af Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Self-contained book providing an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. Presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modelled. Suitable as a graduate-level textbook, and will also be a useful reference for practising engineers in the semiconductor industry.
Brugerbedømmelser af Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Plasma Processes for Semiconductor Fabrication findes i følgende kategorier:
Du kan altid afmelde dig igen.
© 2024 Tales.dk Esromgade 15, 3. | 2200 København N | Danmark | CVR: DK43351621
