Gør som tusindvis af andre bogelskere
Tilmeld dig nyhedsbrevet og få gode tilbud og inspiration til din næste læsning.
Ved tilmelding accepterer du vores persondatapolitik.Du kan altid afmelde dig igen.
Handbook of Chemical Vapor Deposition - Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) Pierson - Bog
- Principles, Technology and Applications
- Indbinding:
- Hardback
- Sideantal:
- 506
- Udgivet:
- 1. september 1999
- Udgave:
- 2
- Størrelse:
- 164x237x40 mm.
- Vægt:
- 944 g.
- 8-11 hverdage.
- 13. december 2024
Forlænget returret til d. 31. januar 2025
Normalpris
-
BLACK WEEK
Medlemspris
Prøv i 30 dage for 45 kr.
Herefter fra 79 kr./md. Ingen binding.
Herefter fra 79 kr./md. Ingen binding.
Bag om Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) Pierson
Vis alle bøger af Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) PiersonBeskrivelse af Handbook of Chemical Vapor Deposition
Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.
Brugerbedømmelser af Handbook of Chemical Vapor Deposition
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Handbook of Chemical Vapor Deposition findes i følgende kategorier:
Du kan altid afmelde dig igen.
© 2024 Tales.dk Esromgade 15, 3. | 2200 København N | Danmark | CVR: DK43351621
